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发明专利
已授权
一种Cu?Sn?Se纳米相变薄膜材料及其制备方法和用途
📄 申请号:CN201710101643.9
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2017-02-24
申请人
江苏理工学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L45_00
IPC 分类号
H01L45_00
,
B82Y30_00
,
B82Y10_00
,
技术画像
所属领域
相变材料
相变材料
纳米薄膜材料
半导体材料
应用场景
相变存储器, 数据存储, 半导体器件, 热电转换, 纳米电子器件
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摘要
本发明公开了一种Cu‑Sn‑Se纳米相变薄膜材料及其制备方法和用途,所述Cu‑Sn‑Se纳米相变薄膜材料的化学组成为Cu28Sn33Se39,所述Cu‑Sn‑Se纳米相变薄膜材料是以Sn46Se54靶和扇形纯Cu片构成的复合靶材通过高真空磁控溅射的方法沉积而成。本发明的Cu28Sn33Se39纳米相变薄膜材料能够应用于相变存储器,与传统的相变薄膜材料相比具有较快的晶化速度,能够大大提高PCRAM的存储速度;具有较高的晶态电阻,从而能够减少PCRAM的功耗。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
Cu/SnSe纳米复合多层相变薄膜及其制备和应用
当前第 / 件
一种具有高热稳定性、低功耗性能的多层相变薄膜材料
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H01L45_00
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