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发明专利
已授权
一种高速差分过孔的优化方法
📄 申请号:CN201910223549.X
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2019-03-22
公开号
CN109842990B
公开日
2021-09-07
申请人
重庆邮电大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H05K1_02
IPC 分类号
H05K1_02
,
H05K1_11
,
H05K3_00
,
技术画像
所属领域
高速电路设计
高速电路设计
信号完整性
过孔结构优化
应用场景
高速数字通信, 数据中心, 5G通信设备, 服务器, 高性能计算
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摘要
本发明涉及一种高速差分过孔的优化方法,针对高速印制电路板中差分信号与共模信号对差分过孔的低反射、高传输和阻抗稳定的设计要求,通过对差分过孔建立等效物理模型与等效电路模型,运用双杆传输线模型分析和预测差分过孔性能,确定影响差分过孔性能因素包括过孔中心距、反焊盘直径,非功能性结构及地过孔设置。根据模型分析,设置合适的过孔中心距与反焊盘直径,移除差分过孔的非功能性结构,在差分过孔旁设置等距双过孔,本发明对高速PCB设计中的差分过孔的性能进行了优化,为高速差分过孔设计提供参考。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20210907
✅ 授权
20190628
?? 实质审查的生效 :
20190604
📄 公开
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📌 交易状态:
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未申报
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