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摘 要:本发明提供一种表面修饰荧光硅量子点的制备方法,包括a)提供包括酸和荧光硅量子点的混合前体溶液,采用光源辐射所述混合前体;b)采用光源辐射所述混合前体溶液得到表面修饰荧光硅量子点。现有技术相比,本发明使用光源辐射包括酸和荧光硅量子点的混合前体溶液,可以将酸修饰在荧光硅量子点的表面,得到表面修饰荧光硅量子点,表面修饰有酸的荧光硅量子点可以很好的溶解在水中,提高了荧光硅量子点的水分散性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201010518438.0 | 专利名称: | 一种表面修饰荧光硅量子点的制备方法 |
申请日: | 2010-10-18 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C09K11/59搜分类 表 硅 港口搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |