咨询电话:13280638997
传真:0533-3110363
邮箱:kefu@shizifang.com
摘 要:本发明公开的一种基于n长基区碳化硅晶闸管,包括自下而上依次设置的阳极欧姆电极、碳化硅p+发射区外延层、碳化硅n+缓冲层、碳化硅n型长基区外延层、碳化硅p‑短基区外延层、碳化硅n+发射区外延层;碳化硅n+发射区外延层上覆盖有阴极欧姆电极;碳化硅p‑短基区外延层上部镶嵌有两个碳化硅p+区;每个碳化硅p+区上覆盖有门极欧姆电极,门极欧姆电极与碳化硅n+发射区外延层设置有隔离层。在高质量的n型碳化硅衬底上外延生长得到的p+外延层来取代p型碳化硅衬底,能够将串联电阻减小约两个数量级。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201711209284.5 | 专利名称: | 一种基于n长基区碳化硅晶闸管及其制作方法 |
申请日: | 2017-11-27 | 申请/专利权人 | 西安理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 陕西省西安市金花南路5号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/74搜分类 硅 港口搜索 |
公开/公告日: | 2018-05-15 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108039367A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/09/25 | 授权 | |
2018/06/08 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 29/74 专利申请号: 201711209284.5 申请日: 2017.11.27 |
2018/05/15 | 公开 |