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摘 要:本发明公开了一种PSOI横向双扩散金属氧化物半导体场效应管新结构。这种结构是在靠近基区衬底中离子注入浓度渐变型埋层,中间部分为半导体衬底,靠近漏端衬底中埋有隔离的介质埋层。其耐压机理是通过浓度渐变型埋层电荷产生的附加电场调制作用,导致表面电场分布中产生一些新的峰并且趋于均匀而使击穿电压提高;浓度渐变型埋层的电中性作用补偿了漂移区优化的浓度而使器件比导通电阻降低,由此改善了LDMOS击穿电压与比导通电阻之间的矛盾关系。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201410234468.7 | 专利名称: | 一种PSOI横向双扩散金属氧化物半导体场效应管 |
申请日: | 2014-05-29 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/78搜分类 半导体 P 港口搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |