发明专利 已授权

一种半导体光催化剂材料及其加工工艺

📄 申请号:CN201910190391.0 📄 发布日:2026/07/31

著录项目信息

申请日
2019-03-13
公开号
CN109865528A
公开日
2019-06-11
申请人
高苑
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

环境净化, 水处理, 光催化制氢, 自清洁, 空气净化

摘要

本发明公开了一种半导体光催化剂材料及其加工工艺,该复合光催化剂材料包括金属铈、钒酸铋和六方氮化硼,该复合光催化剂材料以六方氮化硼为载体,六方氮化硼上负载有掺杂金属铈的钒酸铋;该复合光催化剂材料的加工工艺为:钒酸铋的制备;铈/钒酸铋复合物的制备;六方氮化硼纳米片的制备;铈/钒酸铋/六方氮化硼复合光催化剂的制备;该复合光催化剂材料中,钒酸铋光催化剂通过掺杂金属铈,并负载在六方氮化硼载体上,两者共同作用,大大地抑制了钒酸铋光催化剂光生电子和空穴的复合,从而有效延长光生电子-空穴的寿命,提高其光催化活性;实验结果表明,本发明复合光催化剂材料具有很好的可见光催化性能。

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是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN109865528A

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20200424
✅ 授权
20200421
⏳ 专利申请权的转移 :
20190705
?? 实质审查的生效 :
20190611
📄 公开
¥19050.0 元
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:39 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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