实用新型已授权

一种制备单晶碳化硅薄膜的化学气相沉积装置

Name: 一种制备单晶碳化硅薄膜的化学气相沉积装置
Brand: 连云港龙塔研磨材料有限公司
SKU: 2023235795189
Availability: InStock

📄 申请号：CN202323579518.9 📄 发布日：2026/10/21

著录项目信息

申请日

2023-12-27

公开号

CN221971736U

公开日

2024-11-08

申请人

连云港龙塔研磨材料有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

C30B25_14

IPC 分类号

C30B25_14 , C30B29_36 ,

技术画像

所属领域

化学气相沉积化学气相沉积半导体材料薄膜沉积设备

应用场景

半导体制造, 功率半导体器件, 第三代半导体, 集成电路制造, 薄膜沉积工艺

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摘要

本实用新型公开了一种制备单晶碳化硅薄膜的化学气相沉积装置，其包括：底板的上表面固定连接有沉淀箱，沉淀箱的上表面固定连接有抽气机，抽气机的输出端固定连接有吸气管，吸气管远离抽气机的一端固定连接有吸气头，抽气机的后表面固定连接有输送管，输送管远离抽气机的一端固定连接有废气箱，沉淀箱的下底壁活动连接有沉淀仓，底板的上表面固定连接有储气箱，储气箱的上表面固定连接有排气管，排气管上设置有排气阀，沉淀箱的右表面固定连接有进气管，通过以上装置，有益于将沉淀箱周围的废气或有害气体进行收集，减少工作环境的污染，同时方便清理减少杂质堆积，并延长设备使用寿命。

常见问题

这项专利是否已经下证？

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种超细碳化硅粉体中分离游离碳的装置

当前第 / 件

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