本发明公开了一种紧凑型雾化辅助CVD薄膜制备装置,包括机箱,该机箱上滑动设有雾化单元、缓冲腔体、加热单元和尾气收集单元,所述雾化单元与缓冲腔体连通,石英腔体的一端与所述缓冲腔体连通,另一端与尾气收集单元连通,所述石英腔体内设衬底样品,所述石英腔体穿设在所述加热单元并通过该加热单元进行加热,前驱体溶液经过所述雾化单元雾化后进入所述缓冲腔体,由所述缓冲腔体进入所述石英腔体内进行薄膜制备。本方案加热单元整体可以移动,不仅可以有效改变石英腔体内薄膜沉积区域竖直方向的温度梯度,而且水平方向也具有温度场可调整性,这对于探索薄膜生长机制提供了条件。
📄 2022103901339
📂 C23C16_44
👤 重庆理工大学
📅 2022-04-14
本发明涉及化学气相沉积技术领域，具体为一种化学气相沉积设备，包括箱体、铰接在箱体上的箱盖、固定安装在箱盖上的进料口，所述箱体的内壁上固定安装有缓冲箱，所述进料口的底部与缓冲箱的上端连通，所述缓冲箱的内部固定安装有第一固定杆，所述第一固定杆的下端设有扇叶。本发明通过设置第一固定杆、扇叶、缓冲箱等机构，待沉积气体由进料口进入箱体内部，利用驱动设备带动扇叶旋转，旋转的扇叶在进料口处形成气流，加快待沉积气体进入缓冲箱的速度，待沉积气体通过通气孔扩散到缓冲箱的下端，使得待沉积气体均匀扩散到箱体内腔中。
📄 2022101301871
📂 C23C16_44
👤 李涛
📅 2022-02-11
柿子坊 · 知识产权运营
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