发明专利 已授权

一种二维原子层材料应变场控制方法

📄 申请号:CN202210050305.8 📄 发布日:2026/09/22

著录项目信息

申请日
2022-01-17
公开号
CN114497238B
公开日
2025-11-21
申请人
青岛科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

半导体器件, 柔性电子, 光电器件, 传感器, 微纳电子

摘要

本发明提供一种二维原子层材料应变场控制方法,包括以下步骤:步骤1:在透明基底上制备纳米吸光层和二氧化硅纳米薄膜;步骤2:把二维原子层材料转移至所述二氧化硅纳米薄膜表面;步骤3:令聚焦激光束穿过所述透明基底辐照所述纳米吸光层,从而获得二氧化硅纳米鼓包,同时对二维原子层材料施加局域应变;步骤4:通过控制聚焦激光束的移动轨迹、能量密度来对二维原子层材料施加复杂应变场,从而完成对二维原子层材料应变场的控制。本发明实施例提供的方法简单高效,绿色环保,在二维原子层材料的应变调控与器件制备方面有广阔的应用前景。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (H10F77_30)

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