实用新型 已授权

一种复合结构的纳米压印膜

📄 申请号:CN202420202362.8 📄 发布日:2026/09/15

著录项目信息

申请日
2024-01-29
公开号
CN221551066U
公开日
2024-08-16
申请人
吉林工业职业技术学院
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 微纳加工, 光学器件, 显示面板, 生物芯片

摘要

本实用新型公开了一种复合结构的纳米压印膜,包括:压印图形层、扩张保护层以及包裹层;压印图形层覆盖于图形化基板的表层,扩张保护层覆盖于压印图形层的上表面;包裹层覆盖于扩张保护层的上表面。本实用新型中的纳米压印膜将扩张保护层置于压印图形和包裹层之间,避免了由于材料扩张造成的线宽波动的问题;同时也解决了硬质或柔性非扩张材料难以从图形基板上剥离的问题;有效提高了压印的精度和产品质量。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN221551066U

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该专利的转让价格是多少?

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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