发明专利已授权

一种适用于光纤芯是任何形状与分布的光栅刻写技术

📄 申请号：CN202010233208.3 📄 发布日：2026/08/27

著录项目信息

申请日

2020-03-29

公开号

CN111552022A

公开日

2020-08-18

申请人

桂林电子科技大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G02B6_02

IPC 分类号

G02B6_02

技术画像

所属领域

光纤光栅光纤光栅光栅刻写光通信器件

应用场景

光纤通信, 光纤传感, 光纤激光器, 光网络, 数据中心

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摘要

本发明提供的是一种适用于光纤芯是任何形状与分布的光栅刻写系统与方法。其特征是：系统包括光学平台、准分子激光器、反射镜组、光阑、扩束镜组、柱透镜、光栅刻写装置、光纤夹具、光纤V形连接器和光栅刻写在线监测系统，光栅刻写装置包括直角反射镜、相位掩模板和光纤载板，光纤载板具有储液池和U形槽，用于存放光纤匹配液和放置待刻写光纤，可消除光纤曲面和空气介质对刻写光束的影响。本发明可以有效改善纤芯是任何形状与分布的光纤的光栅刻写效果和效率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种超光滑表面粗糙度测量系统

当前第 / 件

基于三芯光纤的并行Michelson集成式干涉仪

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