发明专利 已授权

一种超光滑表面粗糙度测量系统

📄 申请号:CN202010276479.7 📄 发布日:2026/08/27

著录项目信息

申请日
2020-04-10
公开号
CN111609819B
公开日
2022-03-25
申请人
桂林电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

精密制造, 光学元件检测, 半导体晶圆检测, 质量检测, 科研实验

摘要

本发明提供的是一种超光滑表面粗糙度测量系统。其特征是:它由激光光源1、单模光纤2、环形器3、双芯光纤4、高精度位移控制模块5、待测样品6、物镜7、电荷耦合器件(CCD)8、光电探测器9和计算机10组成。其中单模光纤2和双芯光纤4经过熔融拉锥(FBT)后可将光耦合进入双芯光纤4。双芯光纤4的末端端面镀有反射膜4‑1,反射膜4‑1将双芯光纤4其中一路光信号重新耦合至光纤中作为参考光;另一路光垂直入射在待测样品6表面发生镜面反射和漫反射。其中携带待测样品6表面粗糙度信息的镜面反射光将重新耦合进入光纤中作为信号光。参考光和信号光在FBT处发生干涉,干涉信号通过单模光纤2经环形器3输出至计算机10,得到待测样品6的表面粗糙度。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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