发明专利 已授权

一种高矫顽力B掺杂FePt薄膜的制备方法

📄 申请号:CN202110137365.9 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2021-02-01
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

磁存储器件, 磁记录介质, 磁性传感器, 微电子器件

摘要

本发明公开一种通过电沉积和带电化学镀协同制备多层膜扩散获得高矫顽力B掺杂FePt薄膜的方法。一定含量的和多层结构使FePtB薄膜退火后的矫顽力达23kOe。比现有的电沉积薄膜矫顽力大的多。交替的多层结构[Pt/FeB]n薄膜通过氢气氛围退火促进永磁相的形成,但薄膜内仍存在小部分软磁相,形成两相共存,两相共存提升了薄膜的矫顽力。本发明通过控制通电时间、电流密度以及薄膜层数可以调控薄膜厚度和矫顽力大小,也可以通过配制的镀液浓度调控各电沉积元素的含量,极大拓展了应用范围。同时,电沉积具有设备简单,操作方便的特点,提升了实用性价值。在尺寸方面可以实现几微米致几十微米的厚度,为微型化零件在微电机中的应用提供了有效方案。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20220315
✅ 授权
20210702
?? 实质审查的生效 :
20210615
📄 公开

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