发明专利已授权

一种光流变抛光液回流式射流抛光装置及其抛光方法

📄 申请号：CN202411783509.8 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2024-12-06

公开号

CN119238229B

公开日

2025-02-18

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B1_00

IPC 分类号

B24B1_00 , B24B31_10 , B24B57_02 ,

技术画像

所属领域

超精密加工超精密加工射流加工表面工程

应用场景

光学元件精加工, 精密模具抛光, 半导体晶圆平坦化, 医疗器械表面处理, 精密结构件光整加工

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摘要

本发明属于磨料射流抛光技术领域，公开了一种光流变抛光液回流式射流抛光装置及其抛光方法，包括平台系统、抛光系统及抛光液循环系统，平台系统包括加工平台，抛光系统包括射流喷头，抛光液循环系统包括回流均照容器、射流均照容器、可见光光源、紫外光光源以及管路组件。本发明解决了中大型曲面零件抛光效率低、成本高的问题。本发明设计的回流式射流喷头，将射流抛光应用在了中大型曲面上，并实现对抛光液的回收，抛光液采用光流变可逆机理，初始呈现条状的光敏胶体在紫外光的照射下会发生光异构化反应呈现为絮状，束缚磨粒成团状，有效提高抛光质量和效率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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