发明专利已授权

一种电场磁场双向变化的液态金属抛光装置及方法

📄 申请号：CN201810490474.7 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2018-05-21

公开号

CN108436743B

公开日

2024-04-09

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B31_10

IPC 分类号

B24B31_10 , B24B31_12 , B24B31_14 , C09G1_02 , B24B1_00 ,

技术画像

所属领域

液态金属抛光液态金属抛光电磁场辅助加工表面处理技术

应用场景

金属表面抛光, 精密制造, 模具抛光, 医疗器械表面处理, 航空航天零件加工

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摘要

本发明公开了一种电场磁场双向变化的液态金属抛光装置，包括操作台、第一永磁体、第一电机、第二电机、连杆滑块机构、滚珠丝杠、滚珠丝杠座、支撑板、丝杠螺母、叶片、连接件、正电极、第二永磁体、负电极、液态金属抛光液、抛光容器、工作平台、固定轴和抛光腔体；本发明采用丝杠驱动模块驱动正电极上下移动，使正电极和负电极形成的正弦波电场稳定在叶片所在区域内，同时第二电机通过连杆滑块机构带动第一永磁体和第二永磁体组成的整体往复直线运动,产生往复运动的磁场，二者相结合使得液态金属在叶片所在抛光区域的金属离子高频振动，进而带动叶片所在抛光区域的磨粒的高频振动，从而高效利用磨粒对叶片边缘进行抛光。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：21 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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