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发明专利
已授权
一种双面粗糙铜箔及其制备方法
📄 申请号:CN202110638179.3
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2021-06-08
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01M4_66
IPC 分类号
H01M4_66
,
H01M4_70
,
H01M10_0525
,
C23F1_18
,
技术画像
所属领域
电解铜箔
电解铜箔
表面处理
电沉积
应用场景
锂电池, 印制电路板, 电子器件, 电磁屏蔽, 新能源
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摘要
本发明属于锂离子电池领域,为解决现有的铜箔厚度较大、光面实际比表面积小,并且活性物质粘结较差、容易脱落,导致电池容量易衰减易失效等问题,提供一种双面粗糙铜箔,通过以下方法制备:1)配制含氯和含铜的刻蚀液;2)将洗净干燥的铜箔置于刻蚀液中进行浸渍刻蚀;3)浸渍刻蚀结束后铜箔取出,清洗并干燥即得到双面粗糙铜箔。本发明1)均匀蚀刻可以减小铜箔的厚度,生产更薄的铜箔;2)蚀刻使得铜箔两面的表面有一定的粗糙度,加强涂覆材料与铜箔的结合强度;3)加强负极的导电性,提高电池的倍率性能;4)铜箔的比表面积明显增大,能够有效提高活性材料的负载量。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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