发明专利已授权

基于等几何分析的浅浮雕模型建立方法

📄 申请号：CN201811494117.4 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2018-12-07

公开号

CN109816793B

公开日

2022-12-06

申请人

杭州电子科技大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G06T17_30

IPC 分类号

G06T17_30

技术画像

所属领域

等几何分析等几何分析计算机辅助设计几何建模

应用场景

工艺美术设计, 模具制造, 数控雕刻, 三维打印, 建筑装饰

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摘要

本发明公开了基于等几何分析的浅浮雕模型建立方法，主要分为四个阶段：用户输入设计草图、对草图区域进行区域分解以及参数化、根据草图上的浮雕笔画在参数化结果上选取采样点、通过求解带有限制条件的泊松方程获得浅浮雕模型。本发明实现了从用户设计的草图出发到浅浮雕模型的获得，草图的输入形式可以让用户自由设计浮雕模型的外部轮廓以及内部的浮雕形状，这一输入形式能使得用户的设计更加流畅，从而摆脱了传统CAD软件对象按钮的模型构建方式，使设计阶段拥有更多自由与趣味。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种钛合金和不锈钢的填粉等离子焊接方法

当前第 / 件

一种由分数阶电容构成的三次非线性磁控忆阻电路

同领域国内专利 · IPC: (G06T17_30)

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：20 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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