发明专利 已授权

一种平面光学元件旋转平移绝对检测中心对准方法

📄 申请号:CN202010618708.9 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2020-06-30
公开号
CN111707191B
公开日
2021-09-07
申请人
西安工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学元件制造, 精密测量, 半导体光刻, 激光光学系统, 天文光学

摘要

本发明公开了一种平面光学元件旋转平移绝对检测中心对准方法。首先在被测光学元件表面上选取一个特征标记点,被测光学元件绕光轴作多次旋转操作时,记录变动后特征点的位置,标记点轨迹是以旋转中心为圆心的圆,将标记点轨迹进行拟合得出旋转中心像素坐标。获取参考面上多个边缘坐标点同样进行圆拟合,得到参考面的圆心像素坐标。得到参考面中心与旋转中心的偏离距离,用调整机构分别在X,Y方向上调整旋转平台位置,使其与参考面中心重合。该方法采用最小二乘法拟合圆形轨迹,得到参考面和旋转中心,从而达到精确对准的目的,为波面重建提供较准确的波面信息,从而提高绝对检测的精度,具有很重要的作用。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20210907
✅ 授权
20201027
?? 实质审查的生效 :
20200925
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:48 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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