发明专利已授权

一种平面光学元件旋转平移绝对检测中心对准方法

📄 申请号：CN202010618708.9 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2020-06-30

公开号

CN111707191B

公开日

2021-09-07

申请人

西安工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01B11_00

IPC 分类号

G01B11_00 , G01B11_24 ,

技术画像

所属领域

光学元件光学检测技术干涉测量精密测量技术光学元件

应用场景

光学元件制造, 精密测量, 半导体光刻, 激光光学系统, 天文光学

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摘要

本发明公开了一种平面光学元件旋转平移绝对检测中心对准方法。首先在被测光学元件表面上选取一个特征标记点，被测光学元件绕光轴作多次旋转操作时,记录变动后特征点的位置，标记点轨迹是以旋转中心为圆心的圆，将标记点轨迹进行拟合得出旋转中心像素坐标。获取参考面上多个边缘坐标点同样进行圆拟合，得到参考面的圆心像素坐标。得到参考面中心与旋转中心的偏离距离，用调整机构分别在X,Y方向上调整旋转平台位置,使其与参考面中心重合。该方法采用最小二乘法拟合圆形轨迹，得到参考面和旋转中心，从而达到精确对准的目的，为波面重建提供较准确的波面信息，从而提高绝对检测的精度，具有很重要的作用。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210907

✅ 授权

20201027

?? 实质审查的生效：

20200925

📄 公开

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议价

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：24 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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