发明专利已授权

一种阵列结构光学元件的面形误差测量方法

📄 申请号：CN202210451951.5 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2022-04-27

公开号

CN114858090B

公开日

2023-10-03

申请人

北京泰和兴光科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01B11_24

IPC 分类号

G01B11_24 , G06F30_20 ,

技术画像

所属领域

误差测量光学测量面形误差检测阵列光学元件误差测量

应用场景

精密光学制造, 光学元件质量检测, 半导体光刻, 微纳加工

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摘要

本发明涉及光学测量技术领域，具体涉及一种阵列结构光学元件的面形误差测量方法。用于解决阵列结构光学元件面形的测量和评价问题。本发明采用方法步骤为：1）利用三维表面形貌检测装置对阵列结构光学元件进行检测，获得阵列结构光学元件表面形貌点云数据；2)将测量得到的阵列结构光学元件表面形貌点云数据通过六维自由度的平移旋转，使之与理论设计形状最佳匹配；3）采用最邻近插值算法，使匹配后的测量数据与理论数据的横向坐标完全匹配，然后对纵向坐标进行点对点相减，使之与理论设计形状最佳匹配，即可获得该被测阵列光学元件的面形误差。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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议价

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：32 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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