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发明专利
已授权
一种磁场的测量装置
📄 申请号:CN202110573239.8
📄 发布日:2026/06/30
著录项目信息
申请日
2021-05-25
公开号
CN113219383B
公开日
2022-12-06
申请人
韩山师范学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G01R33_032
IPC 分类号
G01R33_032
技术画像
所属领域
测量装置
磁传感器
磁场测量
传感器技术
测量装置
应用场景
工业检测, 科研实验, 地质勘探, 医疗诊断, 航空航天
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摘要
本发明公开了磁场的测量装置,该装置包括:衬底层、结构层;结构层设置于所述衬底层上;结构层包括周期排布的结构单元,每个结构单元包括n个矩形条,所述矩形条两两之间首尾顺次相接围成环形,所述矩形条(201)共面且两两之间设置间距,所述矩形条中至少有两个的长径比不同,n都为自然数且n大于等于3;所述矩形条的材质为石墨烯。其中,左旋和右旋圆偏振光照射下所述结构层的折射率不同,也就是左旋和右旋圆偏振光照射下所述结构层的透射率会产生差异,从而用该透射率的差异反映磁场的大小,进而实现对磁场的测量。本发明利用光信号的改变反映磁场的大小,因此会大大提高测磁场测量的灵敏度。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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