发明专利 已授权

一种复合全息光刻系统和方法

📄 申请号:CN202411217485.X 📄 发布日:2026/06/16

著录项目信息

申请日
2024-09-02
公开号
CN119310804B
公开日
2025-10-10
申请人
浙江理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 微纳光学器件, 全息显示, 光栅制造, 光子集成

摘要

本发明涉及复合全息光刻系统和方法,包括:照明子系统、数据处理子系统、复合光场输出子系统和感光材料平台,照明子系统包括光源、物光照明机构和参考光照明机构,物光照明机构包括多个物光照明通道,参考光照明机构包括多个参考光通道;数据处理子系统用于接收三维图像信息或三维结构信息,并将三维图像信息或者三维结构信息转换为波前信息,并将波前信息按照视角分组形成多个子区域;编码子波前信息形成对应的复合子光场信息,并将复合子光场信息输入至复合光场输出子系统;复合光场输出子系统用于接收照明子系统的多个物光通道的光,接收处理子系统的多个复合子光场信息,将复合子光场传输至感光材料平台所承载的感光材料上。实现了大面积、高分辨率的衍射结构和图案的输出。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图2
图3

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