实用新型 已授权

一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座

📄 申请号:CN201921316492.X 📄 发布日:2026/06/12

著录项目信息

申请日
2019-08-14
公开号
CN210600709U
公开日
2020-05-22
申请人
江苏瑞鑫集成电路设备有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 光电子器件制造, 无尘室设备安装, 精密仪器隔振, 微电子加工

摘要

本实用新型涉及隔振基座技术领域,具体为一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板,支撑板下端设置有若干均匀分布的横梁柱,横梁柱上设置有若干均匀分布的支撑装置,支撑装置包括横撑杆、立柱和X型支架,立柱的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱贯穿立柱的方形凹槽,立柱中嵌入有若干均匀分布的吸收装置,吸收装置包括定位座、牵制体、控制球、压力壳体和弹簧,本实用新型构造设计实现震动能量被若干吸收装置高效稳定的吸收,同时定位座的圆锥状设计不会影响立柱的支撑稳定性,这样避免震动通过基座影响到电子无尘室中的机器设备,对装置进行保护,提高无尘室的使用寿命。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN210600709U

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (F16M5_00)

F16M5_00 覆盖1个领域
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:159 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 已报项目

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