发明专利 已授权

一种新型光敏剂的合成方法及应用

📄 申请号:CN202310634668.0 📄 发布日:2026/10/08

著录项目信息

申请日
2023-05-31
公开号
CN116789676A
公开日
2023-09-22
申请人
深圳万知达企业管理有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

光动力治疗, 光催化, 光固化, 生物医药, 光敏染料

摘要

本发明公开了一种新型光敏剂的合成方法及应用,所述光敏剂的结构如下式:#imgabs0#其中,取代基R为选自溴、N,N‑二甲胺基苯基、对氰基苯基中的任意一种。该光敏剂以吲哚衍生物和吡咯‑2‑甲醛的衍生物为原料,经哌啶、醋酸催化缩合,又与苯硼酸偶联而成,合成方法简单,分离提纯方便,产率较高。经交叉偶联反应引入芳环,使分子共轭性增加,吸收和发射光谱红移,可促进单线态氧的生成。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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