发明专利 已授权

磁性斯格明子写入装置及其形成方法

📄 申请号:CN202010630619.6 📄 发布日:2026/09/11

著录项目信息

申请日
2020-07-03
公开号
CN113889566B
公开日
2025-12-30
申请人
华南师范大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

数据存储, 磁性随机存储器, 自旋电子器件, 逻辑运算器件, 纳米电子器件

摘要

本发明涉及一种磁性斯格明子写入装置及其形成方法,包括:磁性薄膜;写入单元,用于向所述磁性薄膜写入磁性斯格明子;应力提供装置,用于为所述磁性薄膜提供压应力或张应力。根据磁性薄膜的磁致伸缩系数的正或者负,会在薄膜中的产生沿张力方向或垂直张力方向的磁化易轴,进而降低薄膜中磁性斯格明子的成核的能量阈值。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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