发明专利已授权

一种含稀土化合物的软胶抛光垫的制备方法

📄 申请号：CN202210935317.9 📄 发布日：2026/05/07

著录项目信息

申请日

2022-08-04

公开号

CN116141215B

公开日

2024-08-27

申请人

华侨大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24D11_00

IPC 分类号

B24D11_00 , B24B37_24 , B24B37_22 , B32B5_02 , B32B5_26 ,

技术画像

所属领域

稀土化合物化学机械抛光稀土材料高分子软胶材料稀土化合物

应用场景

半导体晶圆抛光, 光学器件抛光, 精密表面加工, 电子材料平坦化

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摘要

本发明公开了一种含稀土化合物的软胶抛光垫的制备方法，选取涤纶制的网状结构进行骨架支撑，使得加工时长可以等到足够的保障，并且本发明可采用多层结构设计，使得在金刚石磨抛加工过程初期得到更高的材料去除率的同时，也能在后续的磨抛加工过程中得到更好的表面质量；采用镀钛金刚石磨粒/镀铁金刚石磨粒，不仅仅可以提升抛光垫基体对金刚石磨粒的把持力，同时还可以参与金刚石石墨化反应；La0.6Sr0.4Co3粉在金刚石磨抛加工过程中，对金刚石石墨化起到类似催化剂的作用，使得加工效率更好，同时也可以对抛光垫进行优化作用。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种透过散射介质的复杂光场的调控方法及装置

当前第 / 件

一种可循环利用的混合磨料抛光膜的制备方法

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