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一种可循环利用的混合磨料抛光膜的制备方法

Name: 一种可循环利用的混合磨料抛光膜的制备方法
Brand: 华侨大学
SKU: 202210934985X
Availability: InStock

📄 申请号：CN202210934985.X 📄 发布日：2026/09/04

著录项目信息

申请日

2022-08-04

公开号

CN116141214B

公开日

2024-08-27

申请人

华侨大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24D11_00

IPC 分类号

B24D11_00 , B24D3_28 , B24D3_32 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

精密抛光, 半导体制造, 光学加工, 金属表面处理, 消费电子制造

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摘要

本发明公开了一种可循环利用的混合磨料抛光膜的制备方法，包括如下步骤：(1)将热塑性弹性体TPE加热至熔融状态，获得熔融态TPE；(2)将微米级硬质磨料与微米级稀土磨料混合均匀，制成混合磨料；(3)将混合磨料与熔融态TPE混合均匀；(4)将步骤(3)所得的物料进行挤出流延成型，即得所述混合磨料抛光膜。本发明制备的混合磨料抛光膜的应用范围广，普遍适用于陶瓷基材抛光、平坦石材表面抛光、半导体晶圆抛光以及大尺寸平面的精密加工，在有破损的情况下，可通过简单的加热至熔融状态后，再次经过挤出流延的方法再次成型，大大降低了制备成本。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN116141214B

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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