发明专利 已授权

一种透过散射介质的复杂光场的调控方法及装置

📄 申请号:CN202210937452.7 📄 发布日:2026/09/04

著录项目信息

申请日
2022-08-05
公开号
CN115685565A
公开日
2023-02-03
申请人
华侨大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

生物医学成像, 光学显微成像, 自由空间光通信, 航空航天探测, 机器视觉

摘要

本发明公开一种透过散射介质的复杂光场的调控方法及装置,包括:激光器光束经准直、偏振和扩束处理后入射到光场调控装置;光场调控装置加载掩膜对入射光场进行调制;调制后的入射光场经散射介质扰乱后形成未知的散斑光场,散斑光场输入到波前成像系统中;波前成像系统计算输出未知散斑光场的复振幅信息即振幅和相位信息;元启发式优化算法基于波前成像系统输出的入射光场与目标光场的振幅和相位的相关度评估光场调控质量,反馈输出优化信息,不断优化入射光场的复振幅分布,最终实现透过散射介质的复杂光场的调控。本发明基于高分辨率波前成像系统和智能元启发式优化算法,能够在任意调控目标下对透过散射介质的光场实现振幅和相位的二维调控。

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这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN115685565A

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图2
图3

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