实用新型已授权

一种氧化炉均匀喷淋装置

📄 申请号：CN202220608789.9 📄 发布日：2026/06/05

著录项目信息

申请日

2022-03-21

公开号

CN217615400U

公开日

2022-10-21

申请人

德兴市意发功率半导体有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

B05B7_08

IPC 分类号

B05B7_08 , C30B33_00 ,

技术画像

所属领域

工业炉设备工业炉设备喷淋装置流体分布

应用场景

氧化处理, 热处理, 表面处理, 工业炉内冷却, 化工反应

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摘要

本实用新型公开了一种氧化炉均匀喷淋装置，其包括：混气筒、管接头、第一布气管和第二布气管，所述第一布气管和第二布气管平行设置在混气筒中，所述混气筒的前端设置有第一盖板，所述混气筒尾端设置有第二盖板，所述管接头与第一布气管前端之间设置有贯穿第一盖板的第一供气管，所述管接头与第二布气管尾端之间设置有贯穿第二盖板的第二供气管，所述第一布气管和第二布气管上间隔设置有布气孔，所述混气筒底部间隔设置有至少一排喷淋孔。本实用新型所述的氧化炉均匀喷淋装置，特别设计了第一布气管和第二布气管，抵消布气孔的出气差异，并利用混气筒进行混气，确保气压均匀性，最后通过喷淋孔喷出。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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