实用新型已授权

一种湿法自动清洗装置

📄 申请号：CN202220609201.1 📄 发布日：2026/06/05

著录项目信息

申请日

2022-03-21

公开号

CN217251099U

公开日

2022-08-23

申请人

德兴市意发功率半导体有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

B08B3_04

IPC 分类号

B08B3_04 , B08B3_02 , B08B5_02 , B08B13_00 , F26B21_00 , H01L21_02 ,

技术画像

所属领域

自动清洗装置半导体制造设备湿法清洗工艺自动控制系统清洗装置自动清洗装置

应用场景

半导体晶圆清洗, 电子元件清洗, 精密零部件清洗, 光伏电池片清洗, 显示面板清洗

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摘要

本实用新型公开了一种湿法自动清洗装置，其包括：底座、清洗槽、升降板、顶板、转盘、载具、布气板和布液板，所述底座上对称设置有两排立柱，所述顶板设置在立柱的顶部，所述升降板设置在顶板与底座之间，所述顶板上设置有与升降板相连接的升降驱动装置，所述清洗槽设置在底座上并位于升降板的下方，所述升降板上设置有向下指向清洗槽的旋转驱动装置，所述转盘设置在旋转驱动装置底部并位于清洗槽上方，所述载具环形阵列设置在转盘上，所述布气板和布液板设置在升降板底面并位于载具的上方，所述布气板底部间隔设置有喷气嘴，所述布液板底部间隔设置有雾化喷头。本实用新型所述的湿法自动清洗装置，提升了清洗效果和效率，降低了成本。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种硅片扩散炉持续供气系统

当前第 / 件

一种氧化炉均匀喷淋装置

同领域国内专利 · IPC: (B08B3_04)

B08B3_00 B08B3_02 B08B3_04 B08B3_06 B08B3_08 B08B3_10 B08B3_12 B08B3_14 覆盖8个领域

议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：48 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 已报项目

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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