发明专利已授权

一种用于大平面抛光的磁力研磨装置及磁力研磨方法

📄 申请号：CN201910196542.3 📄 发布日：2025/09/10

著录项目信息

申请日

2019-03-15

公开号

CN110000621B

公开日

2024-02-09

申请人

辽宁科技大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B1_00

IPC 分类号

B24B1_00 , B24B19_00 , B24B41_00 , B24B51_00 ,

技术画像

所属领域

研磨装置磁力研磨技术表面光整加工精密加工研磨装置

应用场景

模具抛光, 精密平面加工, 金属表面光整, 机械零件精加工

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摘要

本发明涉及一种用于大平面抛光的磁力研磨装置及磁力研磨方法，所述磁力研磨装置包括机架、工件装卡台、十字滑轨工作台、移动支架、升降机构及研磨装置；工件装卡台及十字滑轨工作台设置在机架上，移动支架能够在十字滑轨工作台上沿横向及纵向移动；移动支架的一侧设升降机构，研磨装置设置在升降机构上并能够升降移动；研磨装置由研磨电机、电机夹头、磁极盘及磁极组成，研磨电机通过所述电机夹头连接磁极盘，磁极盘的底部设有多个磁极，磁极按照N极、S极交替安装的方式安装在磁极盘上，磁极的底面开设多道纵横交错的磁极槽。本发明既能保证平面研磨的表面质量与平面度，又可高效完成对非导磁工件的大平面研磨加工，且成本低，研磨效果好。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种基于二阶矩函数的图像聚焦测度实现方法

当前第 / 件

一种化学磁粒复合研磨管内表面的装置及方法

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