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| 专利/申请号: | CN202010880526.9 | 专利名称: | 一种半导体铜背靶加工方法 | 
| 申请日: | 2020-08-27 | 申请/专利权人 | 金嘉品(昆山)金属工业有限公司 | 
| 专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市昆山市巴城镇东昌路33号 | 
| 专利状态: | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号: | B21J5/00 分类检索 | 
| 公开/公告日: | 2022-05-31 | 转让价格: | 【平台担保交易】 | 
| 公开/公告号: | CN112170753B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 | 
| 浏览量: | 91 | 所属领域: | 半导体芯片生产 芯片制造 半导体铜靶材 铜靶材加工 铜背靶精密加工专利转让搜索 | 
摘 要:本发明公开了一种半导体铜背靶加工方法,其包括以下步骤:(1)将圆柱体状的T2紫铜铜材加热至850℃,然后经过锻压机锻打使T2紫铜铜材的直径变大高度变低,后放置冷却至650℃,然后将T2紫铜铜材锻打成一长方体的形状;(2)在650℃条件下将长方体状的T2紫铜铜材进行墩粗;(3)将T2紫铜铜材放置冷却至350℃,在350℃条件下将墩粗后的T2紫铜铜材锻打成长方体状;(4)继续在350℃条件下继续使用锻压机对长方体状的T2紫铜铜材进行锻打,将长方体状的T2紫铜铜材锻打成圆饼形状,然后在常温条件下空冷放置。本发明的半导体铜背靶加工方法可以将T2紫铜铜材加工成半导体铜靶材,工艺简单,加工成本低。
| 交易方 | 企业 | 个人 | 
| 买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) | 
| 专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
| 专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) | 
| 解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
| 专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) | 
| 日期 | 法律信息 | 备注 | 
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 | 
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