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超高正弦孔道暴露比ZSM-5分子筛及其制备方法

来源:https://www.shizifang.com  发布日:2025/01/03

摘     要:本发明公开了超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛及其制备方法,属在无机化学技术领域。以“结构单元mfi”作为晶种(mfi结构单元属在MFI结构四个基本组成单元之一),具体制备过程包括三个步骤:1)“mfi结构单元”制备,将MCM‑35分子筛粉末(wt%=0.05~0.5)加入到pH=12~15氢氧化钠溶液中进行碱处理;2)以“结构单元mfi”为晶种的水热合成,将碱处理混合物进行冷却,依次加入硅源与铝源,在15~30℃下搅拌0.5~3小时后将合成前躯体装入反应釜并转移至均相反应器中晶化;3)产物收集,晶化产物经离心分离、洗涤至中性、干燥后得到95%超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛。该分子筛其表面超高正弦孔道暴露比,在二甲苯异构体分离过程中展示了显著提升对二甲苯选择性,同时其制备过程操作简单、成本低。

著 录 项: 

专利/申请号: CN202210747667.2 复制 专利名称: 超高正弦孔道暴露比ZSM-5分子筛及其制备方法 复制
申请日: 2022-06-28 申请/专利权人 安阳工学院
专利类型: 发明 地址: 河南省安阳市文峰区黄河大道1号
专利状态: 已下证 查询审查信息 分类号: C01B39/38搜分类   化工材料搜索
公开/公告日: 2023-11-28 转让价格: 面议
公开/公告号: CN115028176B 交易状态: 等待洽谈   搜索相似专利

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    专利证原件(若授权下证) 专利证原件(若授权下证)

专利法律信息

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