发明专利 已授权

超高正弦孔道暴露比ZSM-5分子筛及其制备方法

📄 申请号:CN202210747667.2 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2022-06-28
公开号
CN115028176B
公开日
2023-11-28
申请人
安阳工学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

石油化工催化, 吸附分离, 精细化工, 气体分离, 环保催化

摘要

本发明公开了超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛及其制备方法,属在无机化学技术领域。以“结构单元mfi”作为晶种(mfi结构单元属在MFI结构四个基本组成单元之一),具体制备过程包括三个步骤:1)“mfi结构单元”制备,将MCM‑35分子筛粉末(wt%=0.05~0.5)加入到pH=12~15氢氧化钠溶液中进行碱处理;2)以“结构单元mfi”为晶种的水热合成,将碱处理混合物进行冷却,依次加入硅源与铝源,在15~30℃下搅拌0.5~3小时后将合成前躯体装入反应釜并转移至均相反应器中晶化;3)产物收集,晶化产物经离心分离、洗涤至中性、干燥后得到95%超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛。该分子筛其表面超高正弦孔道暴露比,在二甲苯异构体分离过程中展示了显著提升对二甲苯选择性,同时其制备过程操作简单、成本低。

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图2
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