发明专利已授权

硅抛光片或外延片层错及位错缺陷的无损检测装置及方法

📄 申请号：CN201910445171.8 📄 发布日：2026/08/11

著录项目信息

申请日

2019-05-27

公开号

CN110161173B

公开日

2024-04-12

申请人

陈端

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01N31_00

IPC 分类号

G01N31_00 , G01N21_84 , G01N17_00 , G01N21_95 ,

技术画像

所属领域

检测装置检测装置

应用场景

半导体晶圆制造, 集成电路制造, 硅片质量控制, 外延片生产, 半导体材料检测

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摘要

本发明涉及硅片检测技术领域，公开了硅抛光片或外延片层错及位错缺陷的无损检测装置，包括筒体，筒体通过三个隔板对称设有三个放置区，且三个隔板呈均匀分布设置，三个隔板相背离一侧的侧壁均与筒体的内壁固定连接设置，筒体内壁的中心处固定连接有圆筒，且圆筒的侧壁分别与三个隔板的侧壁固定连接设置，圆筒内还设有放料机构，筒体的底部对称固定连接有四个支撑脚，放料机构包括放置盒、套筒和活动杆，放置盒的底部开设有多个通孔，套筒位于圆筒内设置，圆筒的内壁对称开设有三个凹槽。本发明能够便于对硅片与各个溶液进行反应，同时提高了反应的效果，提高了工作效率，便于人们的使用。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20250729

?? 专利权的转移：

20240412

✅ 授权

20211203

?? 实质审查的生效：

20190823

📄 公开

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¥13000.0 元

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：11 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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