发明专利已授权

一种用于结构光投影非线性校正的条纹图案设计方法

📄 申请号：CN202111412041.8 📄 发布日：2026/08/10

著录项目信息

申请日

2021-11-25

公开号

CN114170345B

公开日

2024-08-27

申请人

南京信息工程大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G06T11_20

IPC 分类号

G06T11_20 , G06T9_00 , G01B11_25 ,

技术画像

所属领域

结构光投影结构光投影图像处理光学三维测量

应用场景

三维测量, 三维扫描, 工业视觉检测, 光学成像, 投影显示

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摘要

本发明公开了一种用于结构光投影非线性校正的条纹图案设计方法，通过参考N步正弦相移条纹图案，分析正弦条纹一个周期内的光强变化，对若干幅黑白条纹进行编码，使编码的黑白条纹在一系列叠加运算后所组成的图案与正弦相移图案基本一致。分析相机采集的图像数据分辨率与投影仪投影图案的分辨率之间的关系，对编码的条纹宽度以及相机采集图像数据的分辨率进行设计，确保每个所得的像素的数据具有唯一性。本发明不需要提前对投影设备进行非线性校正，无需设备具有离焦功能，受硬件限制小；也不会造成因离焦操作带来降低条纹对比度以及加重解相时条纹边沿跳变的影响。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20240827

✅ 授权

20220329

?? 实质审查的生效：

20220311

📄 公开

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