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摘 要:本发明公开了一种变焦曝光方法,包括以下步骤:步骤1、将涂布完成光阻后的蓝宝石晶圆放置曝光机待曝,使2次曝光时晶圆固定在相同位置,避免位移时2次曝光位置不同造成图形失焦;步骤2、进行2次曝光前,确认曝光机单次曝光时适用的能量时间、可用之焦距景深范围、适用曝光能量与中心焦距;步骤3、确认适用曝光能量及中心焦距后可开始进行2次曝光变焦,首先进行首次曝光;步骤4、完成首次曝光后,进行第2次变焦曝光;步骤5、完成变焦曝光后,退出蓝宝石晶圆;本发明在曝光机进行曝光时,于可用的景深范围内进行2次变焦曝光,能够明显提升后段蚀刻效率,值得大力推广。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810902950.1 | 专利名称: | 一种变焦曝光方法 |
申请日: | 2018-08-09 | 申请/专利权人 | 锐捷光电科技(江苏)有限公司 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市张家港经济技术开发区国泰北路15-28号1C幢 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/20搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2020-09-04 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108919613B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |