发明专利 已授权

一种甩胶温度控制方法、系统、甩胶机及可读存储介质

📄 申请号:CN202311673338.9 📄 发布日:2026/07/31

著录项目信息

申请日
2023-12-07
公开号
CN117389356A
公开日
2024-01-12
申请人
深圳市精石光掩膜技术有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆涂胶, 光学元件制备, 平板显示制造, MEMS制造

摘要

本申请提供一种甩胶温度控制方法、系统、甩胶机及可读存储介质,采集光掩膜基板的甩胶温度时序数据,对甩胶温度时序数据进行差错删除和缺失填补后,得到完备甩胶温度时序数据,将完备甩胶温度时序数据矩阵化得到甩胶温度数据矩阵;根据甩胶温度数据矩阵确定甩胶温度协方差矩阵,进而确定初始甩胶温度特征矩阵;根据初始甩胶温度特征矩阵确定甩胶温度差错因子,进而确定甩胶温度特征矩阵;根据甩胶温度特征矩阵和完备甩胶温度时序数据确定低维甩胶温度时序数据,通过低维甩胶温度时序数据和感光胶材料参数确定感光胶温度预测值;通过感光胶温度预测值与预设甩胶温度区间的比较结果对感光胶温度进行控制,以解决感光胶温度预测精度低的技术问题。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

……

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20240130
?? 实质审查的生效 :
20240927
✅ 授权
20240112
📄 公开

同领域国内专利 · IPC: (G05D23_20)

¥13750.0
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:9 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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