一种半导体晶圆表面清洗装置

摘     要：本发明公开了一种半导体晶圆表面清洗装置，包括储液箱，所述储液箱的顶部固连有清洗台，半导体晶圆通过机械手臂放置在清洗台的顶部并与清洗台的顶部相贴合，所述储液箱的左侧设置有回流过滤机构，所述清洗台的顶部设置有吸附机构，所述清洗台的右侧固连有机箱，所述机箱的顶部固连有壳体，所述壳体的内腔设置有推动机构，所述机箱的内腔设置有驱动机构，所述储液箱的右侧设置有供水机构。该半导体晶圆表面清洗装置中，通过供水机构和回流过滤机构的配合使用，对半导体晶圆的清洗连结供给清洗液，并将使用过的清洗液进行回收利用，通过吸附机构对半导体晶圆进行吸附固定，通过驱动机构带动半导体晶圆旋转，使半导体晶圆得到全面有效的清洗。

著 录 项： 

• 1． 买家选定所需专利，确认国家手续办理方，下单，确认交易合同；
  2． 卖家确认专利可交易；
  3． 买家支付交易款项到平台；
  4． 买卖双方签订《专利转让委托书》、《转让协议》、《解除代理委托书》各一式两份并提交给办理国家手续方；
  5． 办理国家手续方提交办理官方手续，国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》；
  6． 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》；
  7． 平台把交易款项支付给卖家，至此专利转让合同完成。
  

• 交易方	企业	个人
  买家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（签字）
  	专利转让委托书（需盖公章）一式两份	专利转让委托书（需签字）一式两份
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  卖家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（需申请人签字）
  	解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请）	解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请）
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  	专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件	专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
  	专利证原件（若授权下证）	专利证原件（若授权下证）

• 日期

  法律信息

  备注