发明专利 已授权

一种Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器及其制备方法

📄 申请号:CN201610837110.2 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2016-09-21
公开号
CN106409963B
公开日
2018-06-15
申请人
浙江理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

紫外探测, 火焰监测, 导弹预警, 环境监测, 光通信

摘要

本发明公开了一种Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器及其制备方法,具体是指以c面蓝宝石单晶为衬底,采用磁控溅射生长沿着晶面择优生长的Zn掺杂β‑Ga2O3薄膜(Zn:Ga2O3)作为光吸收层,并在其上溅射Au/Ti叉指电极作为光生载流子的收集电极,制备获得的Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器。本发明通过Zn掺杂提高了Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器的光响应速度,采用在Ga2O3靶材起辉圈周围放置特定数量的Zn颗粒生长特定浓度Zn:Ga2O3薄膜,方法简单。本发明采用商业化的制备方法磁控溅射生长薄膜,工艺可控性强,易操作,所得薄膜表面致密、厚度稳定均一、可大面积制备、重复性好。该发明制备的Zn:Ga2O3薄膜基MSM结构日盲紫外光电探测器在日盲紫外探测领域具有潜在的应用前景。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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