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摘 要:本发明属于发光二极管技术领域,具体涉及一种基于钛掺杂五氧化二钒空穴注入层的正置型QLED器件及其制备方法。本发明通过在V2O5中掺杂Ti制备Ti‑V2O5溶液,将Ti‑V2O5溶液旋涂于ITO基片上,形成薄膜层作为正置型QLED器件的空穴注入层,并对掺杂比例、旋涂时的转速以及臭氧时间进行优化,制备得到基于Ti掺杂V2O5空穴注入层的QLED器件,并对所制备的QLED器件性能进行检测。所述QLED器件由于掺杂Ti可以使V2O5的导带位置下移,降低了空穴注入势垒,有利于空穴注入层中空穴的注入,所制备QLED器件的参数中,最大电流效率为52.28 cd/A,EQE为13.35%。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910891476.1 | 专利名称: | 一种基于钛掺杂五氧化二钒空穴注入层的正型QLED器件 |
申请日: | 2019-09-20 | 申请/专利权人 | 河南大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 河南省开封市明伦街85号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L51/50搜分类 LED 器件 LED器件 QLED搜索 |
公开/公告日: | 2020-11-17 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN110729405B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |