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摘 要:本实用新型涉及半导体清洗技术领域,具体是一种半导体元件清洗装置,包括清洗箱;所述清洗箱外侧固接有一对位置对称的超声波发射箱;所述清洗箱内固接有滑动块;所述滑动块上开设有滑动槽;所述滑动槽内滑动连接有旋转架;所述旋转架上开设方形通孔;所述方形通孔内侧开设有一对位置对称的旋转槽;打开超声波发生箱进行清洗,提高清洗效率,再打开旋转件,使旋转件带动带动第一连接杆转动,第一连接杆带动旋转块转动,旋转块带动固定件转动,固定件带动半导体元件运动;使其与清洗剂反应的杂物从半导体元件表面脱落,已经反应的杂物从半导体元件表面脱落,新的表面又与清洗剂反应,加快半导体清洗效率,提高工作效率。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202321480404.6 | 专利名称: | 一种半导体元件清洗装置 |
申请日: | 2023-06-12 | 申请/专利权人 | 航迈电子科技(涿州)有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 河北省保定市涿州市开发区朝阳路东段(合谷产业园B2号) |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B08B3/08搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2024-01-26 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN220387283U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2024/01/26 | 授权 |