专利名称：一种半导体抛光用化学机械抛光机      申请号：2022108383444     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：半导体 化学机械抛光   相似专利 发布日：2025/10/30  

应用场景：半导体晶圆表面平整化处理;集成电路制造中的抛光工艺

专利名称：一种用于硫系相变材料的化学机械抛光方法      申请号：2011103202514     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：化工机械 机械抛光 机械制造 化学机械抛光   相似专利 发布日：2024/01/23  
摘要： 一种用于硫系相变材料的化学机械抛光方法，步骤为：1）先对硫系相变材料粗抛，以快速去除镶嵌结构中通孔之外大量多余的硫系化合物；2）然后对粗抛后的硫系相变材料继续进行超精细抛光，以将剩余的通孔之外的硫系化合物去除并露出最终的通孔阵列结构；该抛光方法的抛光液，包括用于粗抛的抛光液A和用于超精细抛光的抛光液B，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂混合组成。本发明的优点：抛光效率高、抛光后表面平整无划痕、工艺简单易行、能够很好的防止过抛，从而提高了基于镶嵌结构制造的相变存储器性能的稳定性和产品的优良率，降低了成本。

专利名称：一种化学机械抛光用自动上料机构     申请号：2020224147579     转让价格：面议  收藏
法律状态：授权未缴费   类型：实用新型   关键词：化工机械 化学化工 上料 机械抛光 机械制造 自动上料机 化学机械抛光   相似专利 发布日：2021/05/31  

专利名称：一种化学机械抛光液用硅溶胶及其制备方法      申请号：2019103209420     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：机械制造 化学机械抛光   相似专利 发布日：2025/07/07  
摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光液用硅溶胶，通过高岭土提纯处理，利用制浆分级获得磁选料-梯度磁选除铁钛-焙烧增白-高温钙化，最终获得硅溶胶原料用氧化硅，有效的提高了高岭土在抛光领域的使用范围，便于向高精度化学机械抛光领域拓展，且制备的氧化硅纳米颗粒尺寸均一，分散性良好，适于作为蓝宝石抛光液中硅元素的原材料。