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本发明涉及一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数的测量装置及方法。所述装置包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源，所述真空系统包括真空室和样品台；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪；所述样品台安装在真空室顶部，离子源安装在真空室底部，离子源的离子束输出口正对样品台设置。测量方法是：先测量梯度折射率薄膜样品的初始椭偏参数，用离子束对薄膜进行减薄，再测量减薄后薄膜的椭偏参数，反复进行减薄、测试步骤，直到薄膜减薄到设定步长以下，即可得到最后一薄层的折射率和消光系数，在此基础上可依次得到其上各薄层的光学常数，最终获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布，实现梯度折射率薄膜光学常数的测量。

本发明提供了一种内嵌金属网格型透明导电薄膜的制备方法，属于激光微纳加工和透明导电薄膜领域。首先在基底上旋涂一层PVP，然后利用激光束在PVP/基底上刻蚀网格阵列形状的凹槽；通过磁控溅射镀膜仪在经激光刻蚀过的PVP/基底表面和凹槽内溅射一层的金属；溅射完将金属/PVP/基底置于乙醇中去除PVP和PVP表层的金属，即可得到内嵌金属网格/基底。本发明在保证薄膜光学性能的同时，可最大程度地提高电学性能，其操作简单、不需要配制金属颗粒墨水和掩膜，对设备无特殊要求，制备成本低。