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本发明公开了一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺，采用真空平面磁控溅射镀膜，首先陶瓷件预处理清洗，进真空室加热，并对真空室抽真空；然后真空室通入氩气，进行离子清洗；最后对陶瓷件进行镀膜，包括：关闭氩气、辅助偏压，在陶瓷件上镀膜Cr层，形成打底层；在打底层上镀膜Ag/Cu/Cr合金层，形成第一过渡层；在第一过渡层上镀膜Ag/Cu合金层，形成第二过渡层；在第二过渡层上镀膜Ag层，完成镀银。本发明的真空平面磁控溅射镀膜工艺，原材料以惰性气体和固体金属靶材为主，在100‑300℃温环境下沉积金属膜；本发明制程短、工艺制程简单、工艺流程环保、成本低且单件产品能耗比低。

本发明提供一种用于氢燃料电池金属双极板的超低电阻耐腐蚀涂层的制备工艺，包含以下步骤：将金属双极板清洗后放入烤箱内烘烤；将烘烤后的金属双极板放入真空炉中，真空加热烘干；向真空炉内通入氩气，使其内真空度为0.5‑2.5Pa，射频离子源靶源采用C靶，对金属双极板进行离子清洗30‑60min；关闭氩气、工件偏压、离子源和靶源，将真空炉抽真空至真空度为(1.0‑8.0)*10‑3Pa；向真空炉内通入氩气，采用等离子体增强真空平面磁控溅射法，依次为金属双极板镀上Ti基层、TiN过渡层和非晶碳膜层。本发明的制备工艺，把耐腐蚀层和导电层依次沉积在金属双极板上，降低其表面接触电阻，提高其耐腐蚀性。

本发明提供一种3C铝制件表面处理的PVD真空镀膜工艺，包含以下步骤：将铝制件清洗后放入真空室内加热烘干，随后向真空室内通入氩气，对铝制件进行离子清洗；离子清洗后，关闭氩气、辅助偏压，调整真空室的真空度；向真空室内通入氩气使真空度维持在10‑1 Pa数量级的动态平衡压强；依次为铝制件镀上Cr基层镀层、CrN第一过渡层、CrSiN第二过渡层和Cr第三过渡层；完成铝制件表面处理，此时铝制件的颜色为银色；换真空室，采用中频电源作为溅射电源，以多弧离子镀或真空平面磁控溅射镀工艺为铝制件镀上颜色层。本发明采用物理气相沉积原理对铝制件表面处理，该工艺过制程短，生产无污染，环保安全，且能耗水耗低，良品率高。