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摘 要:本发明公开了一种基于双目标遗传算法的极紫外多层膜高精度表征方法,该方法通过将实数编码的非支配排序遗传算法(NSGA‑II)应用于EUV多层膜的掠入射X射线反射谱与EUV反射谱的实验结果的联合拟合。将EUV多层膜的掠入射X射线反射谱与EUV反射谱作为双目标遗传算法的优化目标,进化获得接近Pareto前沿的非支配解集,利用Levenberg‑Marquart算法对非支配解集中两个拟合目标的拟合残余较小的优秀个体进一步优化,获得两个拟合目标拟合残余最小的最佳结构参数。本发明解决了基于单目标拟合(掠入射X射线反射谱或EUV反射谱)求解中的多解问题,并避免了将两个拟合目标简单加和联合拟合求解时,目标之间相互影响,甚至严重倾向于其中一个目标造成多层膜微观结构表征精度不高的问题。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710220536.8 | 专利名称: | 基于双目标遗传算法的极紫外多层膜高精度表征方法 |
申请日: | 2017-04-06 | 申请/专利权人 | 长春理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省长春市朝阳区卫星路7089号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B27/00搜分类 计算机软件 表 高精度搜索 |
公开/公告日: | 2019-02-12 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN106990528B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |