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摘 要:本发明提供了一种微纳光场调控与面投影立体光刻协同作用的增材制造系统。本发明将面投影立体光刻技术的大面积高速任意图形增材制造优势与激光干涉光场调控易实现纳米尺度结构的特点相结合,提出一种新型的微纳光场调控辅助面投影立体光刻的增材制造技术。该增材制造技术既避免了面投影立体光刻技术在增材制造微观体素精度方面的不足,又弥补了激光干涉微纳光场调控技术在任意图形增材制造方面的缺点,将突破宏观器件尺寸与微观体素精度互相矛盾的瓶颈。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110455910.9 | 专利名称: | 增材制造系统 |
申请日: | 2021-04-26 | 申请/专利权人 | 长春理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省长春市卫星路7089号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/20搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2021-10-19 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN113515020A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |