发明专利已授权

一种富含碳空位的高熵碳化物增强Ti合金基涂层及其制备方法

📄 申请号：CN202111614458.2 📄 发布日：2026/07/29

著录项目信息

申请日

2021-12-27

公开号

CN114231881B

公开日

2023-07-21

申请人

安徽工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C4_06

IPC 分类号

C23C4_06 , C23C4_129 , C22C32_00 , C22C14_00 , C23C24_10 ,

技术画像

所属领域

高熵碳化物高熵碳化物表面涂层钛合金材料

应用场景

航空航天, 船舶制造, 机械零件, 耐磨涂层, 高温防护

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摘要

本发明属于金属表面工程技术领域，具体涉及一种富含碳空位的(Zr0.25Ti0.25W0.25V0.25)C高熵碳化物增强Ti合金基涂层及其制备方法，首先制备出高熵碳化物前驱体，然后以钛合金粉和高熵碳化物前驱体为涂层原材料；采用超音速火焰喷涂通过控制工艺条件制备了富含碳空位的高熵碳化物增强Ti合金基涂层。本发明利用在超音速火焰喷涂高温热源作用下，高熵碳化物前驱体转化为相应的高熵碳化物，由于预混粉中部分Ti会跟前驱体中的C发生发应生成相应的TiC，从而使生成的高熵碳化物颗粒含有碳空位，使所制备涂层同时具有优异的耐磨性和抗高温氧化性；本发明还可用于制备其他类型的高熵碳化物增强的其他金属涂层，可广泛适用于对材料耐磨性和抗高温性能有较高要求的应用领域。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种具有优异磁电性能的铁酸铋基陶瓷及其制备方法

当前第 / 件

一种铁基氮掺杂多孔碳材料的普适性制备方法

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