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摘 要:本发明公开了一种基于WIML比较图的自适应焦点检测多聚焦图像融合方法,首先首先将彩色源图像A和B均转换为灰度图像;根据步骤1中获得的灰度图像,选择检测范围;获得焦点图像;由焦点图像得到三级比较图C3;由三级比较图C3获得两级比较图C2;消除两级比较图C2中的孤立噪声;结合两级比较图C2,将彩色源图像A和B融合。本发明提供的方法可将源图像的更多原始信息合并到单张图像中并有效提高融合图像质量,可作为边缘检测、特征提取等预处理步骤,具有广泛的应用前景。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910978835.7 | 专利名称: | 一种基于WIML比较图的自适应焦点检测多聚焦图像融合方法 |
申请日: | 2019-10-15 | 申请/专利权人 | 湖北工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 湖北省武汉市武昌区南湖李家墩1村1号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G06T5/50搜分类 Wi L LED芯片 检测搜索 |
公开/公告日: | 2023-09-05 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN110738628B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |