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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN202011422601.3 | 专利名称: | 一种基于氮化碳的土霉素残留物清除剂的制备方法 |
申请日: | 2020-12-08 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B01J27/24分类检索 氮化碳专利转让搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 【平台担保交易】 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明公开了一种基于氮化碳的土霉素残留物清除剂的制备方法,具体为:首先,将MoS2、g‑C3N4和去离子水混合,超声处理;放入高压釜中,进行水热反应,得到MoS2/g‑C3N4复合物;将MoS2/g‑C3N4复合物分散于去离子水和甲醇的混合溶液中,搅拌,之后向溶液中加入氯金酸溶液,使用氙灯对其照射,并用气泵进行鼓气;洗涤,干燥,得到AuNPs/MoS2/g‑C3N4三相复合材料,即为土霉素残留物清除剂。利用纳米金和MoS2双重敏化的g‑C3N4复合材料,能对抗生素残留物进行清除,制备过程对设备要求低、反应条件温和,合成工艺简单易于实现。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |