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摘 要:本发明公开了一种原位制备{001}晶面曝露的锐钛矿型二氧化钛薄膜的方法,具体实施方式如下:先对基体进行清洗,然后进行退火预处理,将处理后的基体再进行清洗并晾干备用;将钛源、氟源、酸和异丙醇均匀混合并充分搅拌,配置成反应前驱液备用;将基体与反应前驱液移至不锈钢高压反应釜中,在电热鼓风干燥箱中进行水热反应,反应结束后冷却取出基体,用去离子水进行超声清洗,获得表面有二氧化钛薄膜的基体。通过本发明制备得到的薄膜在基体上原位生长形貌均匀、致密且薄。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110966403.1 | 专利名称: | 原位制备{001}晶面曝露的锐钛矿型二氧化钛薄膜的方法 |
申请日: | 2021-08-23 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市拱墅区朝晖六区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C30B29/16搜分类 塑料搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |