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摘 要:一种具有多中空的紧聚焦光场分布构造方法,包括以下步骤:步骤1,在紧聚焦系统中,设置入射平面的初始参数;步骤2,设计包含多涡旋奇点的相位分布矩阵P,对涡旋的数量为S、第n个涡旋的位置为和携带的拓扑电荷大小为ln进行调控;步骤3,以径向偏振与角向偏振矢量叠加为混合偏振状态;步骤4,将HPBGVB的透射光场矩阵Et,通过Deybe‑Wolf衍射积分方程得到聚焦光场矩阵Eout;步骤5,根据所得的聚焦光场矩阵Eout计算出聚焦光强矩阵。本发明可以灵活地调控紧聚焦光场分布中空的数量。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110643219.3 | 专利名称: | 一种具有多中空的紧聚焦光场分布构造方法 |
申请日: | 2021-06-09 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B27/00搜分类 布 纺织面料搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |